抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便赶快除掉磨光时发生的损害层,一起也要使抛光损害层不会影响结尾调查到的安排，即不会构成假安排。前者需求运用较粗的抛光蜡，以确保有较大的抛光速率来去掉磨光的损害层，但抛光损害层也较深；后者需求运用最细的资料，使抛光损害层较浅，但抛光速率低。
   处理这个对立的最佳的方法即是把抛光机分为两个期间进行，粗抛意图是去掉磨光损害层，这一期间应具有最大的抛光速率，粗抛构成的表层损害是非必须的思考，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其意图是去掉粗抛发生的表层损害，使抛光损害减到最小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应肯定平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而发生新磨痕。一起还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以防止抛光织物部分磨损太快在抛光过程中要不断增加微粉悬浮液，使抛光织物坚持必定湿度。湿度太大会削弱抛光的磨痕效果，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相发生“曳尾”表象；湿度太小时，由于冲突生热会使试样升温，润滑效果减小，磨面失去光泽，乃至呈现黑斑，轻合金则会抛伤外表。为了到达粗抛的意图，需求转盘转速较低，最佳不要超越600r/min；抛光时刻应当比去掉划痕所需的时刻长些，由于还要去掉变形层。粗抛后磨面润滑，但黯淡无光，在显微镜下调查有均匀详尽的磨痕，有待精抛消除。